製品ラインナップ
イオンビーム装置
- 10IBE (10cm イオンソース)
小型・研究開発用イオンビームミリング研究開発用途に適した小型・省スペースの装置です。
- 8cmまたは10cmカウフマン型イオンソース塔載
- 基板サイズ・枚数: ∅4インチX1枚など
- 自転式直接冷却ステージ
- 20IBE-C (20cm イオンソース)
中型・量産イオンビームミリング装置研究開発から量産まで幅広い用途の中型装置です。
- 20cmカウフマン型イオンソース塔載
- 基板サイズ・枚数: ∅3インチX8枚、∅4インチX6枚、∅6インチX4枚など
- 自公転運動を行うプラネタリーステージ採用し、良好な均一性を実現
- 20IBE-J (20cmイオンソース)
大型・量産用イオンビームミリング装置
- 20cmカウフマン型イオンソース塔載
- 基板サイズ・枚数: ∅4インチX12枚、∅5インチX10枚、∅6インチX8枚など
- 自公転運動を行うプラネタリーステージ採用し、良好な均一性を実現
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伯東 (エヌ・エス)の概要
(株) エヌ・エス日本
(株) エヌ・エスは、長きに亘りイオンビームミリング装置の開発を行っています。同社はイオンビームミリング装置のイオンソース・電源・周辺機器まで自社で設計・製品化していますのでお客様のご要望に応じてカスタマイズも承っています。イオンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。主なアプリケーションは *薄膜磁気ヘッド *スピントロニクス関連 *MRセンサー *MEMS *高周波デバイス *光学素子作成 *超電導etc
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