お知らせ
2007/02/16
nano tech2007出展のご案内
会場:
東京ビックサイト
期間: 2/21-2/23
出展製品・技術:
・Molecular Imprints社製UV式ナノインプリント装置
・SCIVAX社製熱式ナノインプリント装置
・Vistec Lithography社製電子ビーム描画装置
・Raith社製電子ビーム描画装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製収束イオンビーム装置、走査型プローブ顕微鏡
・セラ社製SEM・TEM試料作製用装置
・伯東 (化学事業部) エステル型デンドリマー・ハクフォトマーシリーズ・ハクフィラーSWシリーズ
URL: http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/index.html
期間: 2/21-2/23
出展製品・技術:
・Molecular Imprints社製UV式ナノインプリント装置
・SCIVAX社製熱式ナノインプリント装置
・Vistec Lithography社製電子ビーム描画装置
・Raith社製電子ビーム描画装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製収束イオンビーム装置、走査型プローブ顕微鏡
・セラ社製SEM・TEM試料作製用装置
・伯東 (化学事業部) エステル型デンドリマー・ハクフォトマーシリーズ・ハクフィラーSWシリーズ
URL: http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/index.html