お知らせ
2009/07/22
マイクロマシン/MEMS展出展のご案内
<会場>
東京ビックサイト
東5ホール
<展示ブース> H-10
<期間> 7/29-31
<出展製品>
・Plasma-Therm LLC社製
ドライエッチング、PECVD装置: VERSALINE、790series
・OC Oerlikon Balzers Ltd社製
Blu-ray、DVD用スパッタリング蒸着装置: Sprinter
ウエハープロセス用 (MEMS,微細加工用) : CLUSTERLINE、LLS
太陽電池用: Solaris
・Vistec Lithography社製
電子ビーム描画装置: VB300
・Molecular Imprints社製
UV式ナノインプリント装置: Imprioシリーズ
・伯東製イオンミリング装置
・JPSA社製
レーザー三次元微細加工装置
レーザースクライビング装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製
集束イオンビーム (FIB) 装置: SMI500
小型プローブ顕微鏡
<展示ブース> H-10
<期間> 7/29-31
<出展製品>
・Plasma-Therm LLC社製
ドライエッチング、PECVD装置: VERSALINE、790series
・OC Oerlikon Balzers Ltd社製
Blu-ray、DVD用スパッタリング蒸着装置: Sprinter
ウエハープロセス用 (MEMS,微細加工用) : CLUSTERLINE、LLS
太陽電池用: Solaris
・Vistec Lithography社製
電子ビーム描画装置: VB300
・Molecular Imprints社製
UV式ナノインプリント装置: Imprioシリーズ
・伯東製イオンミリング装置
・JPSA社製
レーザー三次元微細加工装置
レーザースクライビング装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製
集束イオンビーム (FIB) 装置: SMI500
小型プローブ顕微鏡