お知らせ
2009/01/20
nano tech 2009出展のご案内
<会場>
東京ビックサイト
東6ホール
F-22
<期間> 2/18-2/20
<出展製品・技術>
・Molecular Imprints社製
UV式ナノインプリント装置
・Vistec Lithography社製
電子ビーム描画装置
・Raith社製
電子ビーム描画装置
・NanoInk社製
ディップペン・ナノリソグラフィー装置
・Plustek社製
ICPドライエッチング装置
・伯東製
イオンミリング装置
・KRI社製
エンドホール型イオンソース
・JPSA社製
レーザー微細加工装置
・Aceris-3D社製
高速高精度2D/3Dバンプ検査装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製
ナノ加工顕微鏡システム、集束イオンビーム装置、走査型プローブ顕微鏡
http://www.nanotechexpo.jp/
<期間> 2/18-2/20
<出展製品・技術>
・Molecular Imprints社製
UV式ナノインプリント装置
・Vistec Lithography社製
電子ビーム描画装置
・Raith社製
電子ビーム描画装置
・NanoInk社製
ディップペン・ナノリソグラフィー装置
・Plustek社製
ICPドライエッチング装置
・伯東製
イオンミリング装置
・KRI社製
エンドホール型イオンソース
・JPSA社製
レーザー微細加工装置
・Aceris-3D社製
高速高精度2D/3Dバンプ検査装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製
ナノ加工顕微鏡システム、集束イオンビーム装置、走査型プローブ顕微鏡
http://www.nanotechexpo.jp/