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お知らせ

2009/01/20

nano tech 2009出展のご案内

<会場> 東京ビックサイト 東6ホール F-22
<期間> 2/18-2/20

<出展製品・技術>
・Molecular Imprints社製
 UV式ナノインプリント装置
・Vistec Lithography社製
 電子ビーム描画装置
・Raith社製
 電子ビーム描画装置
・NanoInk社製
 ディップペン・ナノリソグラフィー装置
・Plustek社製
 ICPドライエッチング装置
・伯東製
 イオンミリング装置
・KRI社製
 エンドホール型イオンソース
・JPSA社製
 レーザー微細加工装置
・Aceris-3D社製
 高速高精度2D/3Dバンプ検査装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製
 ナノ加工顕微鏡システム、集束イオンビーム装置、走査型プローブ顕微鏡

http://www.nanotechexpo.jp/