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お知らせ

2008/07/09

第19回マイクロマシン/MEMS展出展のご案内

<会場> 東京ビックサイト 西1・2ホール
<展示ブース> W1-078
<期間> 7/30-8/1
<出展製品>
・Molecular Imprints社製 UV式ナノインプリント装置
・Vistec Lithography社製 電子ビーム描画装置
・Raith社製 電子ビーム描画装置
・NanoInk社製 ディップペン・ナノリソグラフィー装置
・伯東製 イオンミリング装置
・KRI社製 エンドホール型イオンソース
・Plustek社製 ICPドライエッチング装置
・JPSA社製 レーザー微細加工装置、LED・LD用レーザースクライビング/ダイシング装
置、薄膜太陽電池スクライビング装置
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製収束イオンビーム装置、走査型プローブ顕微鏡、走
査型電子顕微鏡
・PVA TePla社製 MEMS用マイクロ波プラズマシステム
・Vistec Semiconductor System社製 赤外線顕微鏡検査ステーション