ホーム > お知らせ > 2008年 > nano tech2008出展のご案内

お知らせ

2008/02/01

nano tech2008出展のご案内

<会場> 東京ビックサイト 東5ホール E-28
<期間> 2/13-2/15
<出展製品・技術>
・Molecular Imprints社製UV式ナノインプリント装置
・Vistec Lithography社製電子ビーム描画装置
・Raith社製電子ビーム描画装置
・NanoInk社製ディップペン・ナノリソグラフィー装置
・Plustek社製ICPドライエッチング装置
・伯東製イオンミリング装置
・KRI社製エンドホール型イオンソース
・エスアイアイ・ナノテクノロジー社製収束イオンビーム装置、走査型プローブ顕微鏡、走査型電子顕微鏡
・伯東 (化学事業部) エステル型デンドリマー・ハクフォトマーシリーズ

URL: http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/index.html