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お知らせ

2007/07/20

マイクロマシン展出展のご案内

会場: 東京ビックサイト 西ホール
期間: 7/25-7/27
出展製品:
(1) モレキュラ インプリンツ社 (アメリカ)
UV式ナノインプリント装置
(2) ヴィステック・リソグラフィー社 (イギリス)
高解像度電子ビーム描画装置
(3) ライツ社 (ドイツ)
研究開発用電子ビーム描画装置
(4) ナノインク社 (アメリカ)
ディップペン・ナノリソグラフィー装置
(5) 伯東株式会社 (日本)
イオンミリング装置
(6) ケーアールアイ (アメリカ)
エンドホール型イオンソース
(7) Hyphenated systems (アメリカ)
ナノスケール HS オプティカルプロファイラーシステム
(8) PVAテプラ社 (ドイツ)
マイクロ波プラズマアッシングシステム
レジスト剥離システム
(9) ヴィステックリソグラフィーシステムズ (ドイツ)
赤外線顕微鏡検査ステーション
(10) エイゾレス (アメリカ)
ウエハバンプ用露光装置
(11) 株式会社ファインデバイス (日本)
レーザーガラス切断装置
(12) 株式会社エルフォテック (日本)
高性能微細加工用サンドブラスト装置

URL: http://www.micromachine.jp/