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お知らせ

2009/09/07

次世代デバイスの洗浄工程に新しいソリューション米ナノグリーンテクノロジー社と総販売代理店契約を締結

当社は、米ナノグリーンテクノロジー社 (URL: http://www.nanogreentech.com) と国内総販売代理店契約を締結し、同社との協力体制で45nmノード以降の次世代デバイスをターゲットに、洗浄工程における新たなソリューションを提案していきます。
ナノグリーンテクノロジー社 (NGT) は、半導体デバイス、フォトマスク、FPD等のクリーニング工程において、画期的な特許に基づいた製品を開発している2004年設立の米国のベンチャー企業です。

■化学薬品を用いないクラスター超純水での新しいクリーニング工程
半導体分野は30年の間に、前工程、後工程における様々な手法や装置が改良・強化されているにも関わらず、洗浄工程においては、依然としてRCAクリーニングのSC-1とSC-2が使用され、大きな改良がなされていない状態でした。
そのような中、NGT社は全く新しいクリーニング工程を考案し、その手法を実現するクラスター超純水の機能水供給装置を製品化しました。既に欧州最先端デバイスメーカにて評価が完了し、2007年1月から納入が開始されます。

ナノグリーンテクノロジー社開発のクリーニング工程と既存のクリーニング工程との一番の違いは、化学薬品を使用しない点です。
45nmノード以降の次世代デバイスの微細加工が進んでいく際に、SC-1、SC-2の最大の問題点は、微細パターンが化学薬品を用いた洗浄工程においてダメージを受け、損傷や崩壊が生じる可能性が高い事が指摘されています。
ナノグリーンテクノロジー社のCCS1000を用いた洗浄工程は、クラスター超純水を洗浄装置に送り、そのクラスターがパーティクルを吸着し包み込み、同時に酸化膜の表面粗も改善し、パーティクルを完全に除去出来る仕組みの為、次世代デバイスの微細パターンの損傷と崩壊を引起さない洗浄が可能となり、45nmノード以降のデバイスの洗浄の効率化と歩留りの向上に大きく貢献します。


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■今後の販売計画
2006年10月17日 (火) に、半導体デバイス、フォトマスク、FPDメーカーの方々を対象に、ナノグリーンテクノロジー社製品の技術セミナー新宿住友ビルにて開催します。
2006年12月のセミコンジャパンに、Critical Cleaning System CCS 1000を紹介します。
今後3年間の売上予定は、2007年度3億円、2008年度5億円、2009年度7億円を計画しています。

お問い合せ先
部署名: 電子機器第一事業部営業四部
Tel: 03-3225-8079
担当者: 三浦、石山、厚木、渡辺横川 (関西担当)
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