ホーム > お知らせ > 2006年 > ナノインプリント・テクニカルセミナー開催のご案内

お知らせ

2006/05/01

ナノインプリント・テクニカルセミナー開催のご案内

半導体デバイスを中心にパターンの微細化・高集積化が進む中、従来の技術とは全く違ったアプローチで、安価且つ高精度の微細加工を実現した新しいリソグラフィ技術、ナノインプリントに近年高い注目が集まっております。
このたび当社では、ナノインプリント、リソグラフィー、微細加工、観察、評価などの研究開発に携わる方々を対象に、「ナノインプリント・テクニカルセミナー ~製造技術から解析技術まで~」と題し、伯東が取り扱う関連製品のテクニカルセミナーを企画しました。
「金型」「製造装置」「プロセス」「解析」「樹脂材料」という、ナノインプリントに関わる重要なキーワードを全て網羅したラインナップを取り揃え、『ナノインプリントのトータルソリューション』をテーマとしたプログラム構成となっています。

当日は最新の技術・アプリケーションについて、各メーカーのアプリケーションラボスタッフから、発表が行われます。また、セミナー基調講演には兵庫県立大学の松井先生をお迎えし、研究内容をご紹介頂きます。
講演後、各製品のポスター展示や、メーカーのアプリケーションラボスタッフの方々とご討議いただけるような時間帯もご用意しておりますので、専門的な内容も含めた貴重な情報交換の場としてご活用頂きたいと思います。
皆様のご参加を心よりお待ちしております。

開催日時2006年6月9日 (金) 13:00~18:40
会場 伯東株式会社 本社ビル8階 [地図]
参加費 無料
参加定員 40名
受付締切日 6月5日
*定員になり次第締め切らせて頂きます。お早めにお申込み下さい。

【申し込み方法】

1. Faxでお申し込みの場合
PDFファイルの参加申込書をご利用下さい。 [申込書]

2. 当社HPからお申込みの場合
お問い合わせの「取扱製品について」のフォームをご利用ください。その際、製品・サービス名の欄に「ナノインプリント・テクニカルセミナー参加希望」とご記入ください。

参加受付の手続きが終了後、当社担当部署よりFaxにて参加証を発行いたします。

【プログラム】
13:00~13:10
開会の挨拶
伯東株式会社 取締役電子機器事業担当
電子機器第二事業部長 小平 淳二

13:10~14:10
ナノインプリント技術の最新動向と今後の展開
兵庫県立大学 理学部大学院 高度産業科学技術研究所
教授 松井 真二 様

14:10~14:40
Molecular Imprints社のUVナノインプリント技術と応用展開
Molecular Imprints Inc.
アプリケーションズ エンジニアリング マネージャー 和田 英之 様

14:40~15:10
SCIVAXのナノインプリント技術開発
~ナノサイズの大面積デバイスを実現~
SCIVAX株式会社
取締役 楠浦 崇央 様

15:10~15:40
電子ビーム描画装置によるナノインプリント用テンプレートの
作製について
HOYA株式会社 先端リソグラフィ開発センター
センター長 流川 治 様

15:40~16:00 休憩 (コーヒーブレイク)

16:00~16:30 集束イオンビーム装置による観察・加工例
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
応用技術部 完山 正林 様

16:30~17時00分 ハイアスペクト形状のSPMによる観察
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
応用技術部 西村 敏哉 様

17時00分~17:30 カールツァイス社製SEMのご紹介
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社

17:30~17:40 閉会の挨拶
伯東株式会社 電子機器第一事業部
事業部長 日高 護

17:40~18:40 ポスターセッション
お問合せ先
伯東株式会社 電子機器第一事業部 営業六部
Tel: 03-3225-8052 Fax: 03-3225-9013
担当者: 中重、矢後

メールでのお問い合わせ