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お知らせ

2006/02/17

nano tech 2006出展のご案内

nano tech 2006 (国際ナノテクノロジー総合展・技術会議)

会場: 東京ビッグサイト
期間: 2/21-2/23
出展内容: ナノテクノロジー関連装置
(1) Molecular Imprints社 (アメリカ) : UV式ナノインプリント装置
(2) SCIVAX株式会社 (日本) : 熱式高速ナノインプリント装置
(3) Raith社 (ドイツ) : 電子ビーム描画装置
(4) OceanOptics社 (アメリカ) : 超小型スペクトロメーター

URL: http://www.ics-inc.co.jp/nanotech